Estado de Disponibilidad: | |
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Cantidad: | |
1. Mejorar la capacidad del haz de borde que incide sobre el detector.
2. En el mismo sistema óptico principal, el espejo de campo adicional reducirá el área del detector;si se utiliza la misma área del detector, se puede ampliar el campo de visión y aumentar el flujo incidente.
3. Homogeneizar la iluminación no uniforme en la superficie fotosensible del detector.
1. Se utiliza una película con recubrimiento duro importada, con alta adherencia de la capa de película y resistencia a altas temperaturas.
2. Adopte cuarzo de alta calidad con alta transmitancia, alto umbral de daño anti-láser y rendimiento estable.
3. Recubrimiento de doble cara con película de transmisividad de alto umbral de daño para reducir la pérdida causada por la reflexión y una larga vida útil.
4. Procesado mediante procesos de corte, pulido y esmerilado, resistencia a altas temperaturas, fuerte resistencia al láser.
Especificación | |
Material | Sílice fundida |
Tolerancia del diámetro | +.000', -.005' |
Tolerancia de grosor | ±.005' |
Figura de superficie | Plano: 1/0,5 Curva: 3/1 (Potencia/irregularidad) |
Centration | <.001' |
Tolerancia de distancia focal | <1,0% |
Calidad de la superficie | <10-5 Acabado láser para raspar y excavar |
Rendimiento espectral | |
Tipo de revestimiento AR estándar en ambos lados a 1070 nm (recubrimiento AR) | |
Absorción | <30 ppm |
Transmitancia | >99,9% |
1. Mejorar la capacidad del haz de borde que incide sobre el detector.
2. En el mismo sistema óptico principal, el espejo de campo adicional reducirá el área del detector;si se utiliza la misma área del detector, se puede ampliar el campo de visión y aumentar el flujo incidente.
3. Homogeneizar la iluminación no uniforme en la superficie fotosensible del detector.
1. Se utiliza una película con recubrimiento duro importada, con alta adherencia de la capa de película y resistencia a altas temperaturas.
2. Adopte cuarzo de alta calidad con alta transmitancia, alto umbral de daño anti-láser y rendimiento estable.
3. Recubrimiento de doble cara con película de transmisividad de alto umbral de daño para reducir la pérdida causada por la reflexión y una larga vida útil.
4. Procesado mediante procesos de corte, pulido y esmerilado, resistencia a altas temperaturas, fuerte resistencia al láser.
Especificación | |
Material | Sílice fundida |
Tolerancia del diámetro | +.000', -.005' |
Tolerancia de grosor | ±.005' |
Figura de superficie | Plano: 1/0,5 Curva: 3/1 (Potencia/irregularidad) |
Centration | <.001' |
Tolerancia de distancia focal | <1,0% |
Calidad de la superficie | <10-5 Acabado láser para raspar y excavar |
Rendimiento espectral | |
Tipo de revestimiento AR estándar en ambos lados a 1070 nm (recubrimiento AR) | |
Absorción | <30 ppm |
Transmitancia | >99,9% |